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媒體報導，國教院的雙語詞彙資訊網將「photolithography」翻譯成「光刻」，疑是中國用法。國教院則澄清，我國是沿用民國87年的翻譯定稿，應早於中國使用此名詞，但既然有人提出，就會提交資通辭典委員會討論。
《自由時報》29日報導，國家教育研究院的雙語詞彙、學術名詞暨辭書資訊網中，將半導體產業最昂貴的極紫外光（EUV）曝光機，翻譯成「光刻」機，並非臺灣慣稱的「曝光」機，而是中國用法。
據中央社報導，查詢上述網站，並輸入Extreme ultraviolet lithography（EUV）有2筆結果，一筆是電子工程學術名詞，翻譯成「極紫外微影術；極紫外光刻」；另一筆則是電子計算機名詞，翻譯成「超紫外線平版印刷術」。
如果輸入photolithography有57筆結果，多數都翻成「光刻」；直接輸入中文「曝光機」有7筆結果，例如deep ultraviolet exposure machine翻譯成「深紫外線曝光機 」。
國家教育研究院語文教育及編譯研究中心主任林慶隆受訪表示，photolithography翻譯成「光刻」，是沿用自民國87年由國立編譯館出版的《電子計算機名詞》，應早於中國晚近相關技術的用法。當時邀集多名學者專家組成審查委員會，從81年開始討論到87年成書，共開了164次會議，相當慎重。
不過林慶隆說，既然有人提出質疑，就會提交資通辭典委員會進一步討論。國教院相關辭典都會定期由委員編修，畢竟科學技術不斷發展，部分名詞的翻譯習慣也可能改變。
林慶隆表示，如果是新舊用法的改變，一般來說會採並列方式，以目前學術界普遍用法為主。他強調，翻譯學術名詞的重點是信、達、雅，正確和精準是最重要的，但各界意見不一時，就須在委員會中尋求共識。◇
